黃光區(qū)操作須知

　　1. 濕度及溫度會影響對準工作，在黃光區(qū)應注意溫度及濕度，并應減少對準機附近的人，以減少濕、溫度的變化。
　　2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得攜出黃光區(qū)以免感光。
　　3. 己上妥光阻，而在等待對準曝光之芯片，應放置于不透明之藍黑色晶盒之內(nèi)， 盒蓋必須蓋妥。
　　4. 光罩使用時應持取邊緣，不得觸及光罩面，任何狀況之下，光罩鉻膜不得與他物接觸，以防刮傷，光罩之落塵可以氮氣槍吹之。
　　5. 曝光時，應避免用眼睛直視曝光機汞燈。

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